Effects of substrate roughness on Van Der Waals and electrostatic force contributions to particle adhesion - IRSN - Institut de radioprotection et de sûreté nucléaire Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2021

Effects of substrate roughness on Van Der Waals and electrostatic force contributions to particle adhesion

Résumé

We characterize the effect of substrate roughness on van der Waals and electrostatic particle adhesion forces using theoretical methods. We find that substrate roughness can enhance or diminish electrostatic adhesion by at maximum a factor of ~2 for the surfaces studied, but can attenuate van der Waals forces by several orders of magnitude. Thus, substrate roughness can change the dominant contribution to adhesion from van der Waals forces to electrostatic forces.
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Siddharth Rajupet, Adriaan Riet, Qizan Chen, Mamadou Sow, Daniel J. Lacks. Effects of substrate roughness on Van Der Waals and electrostatic force contributions to particle adhesion. CFA2021 - 34ème Congrès Français sur les Aérosols, Jan 2021, Paris, France. ⟨10.25576/ASFERA-CFA2021-24801⟩. ⟨irsn-03945368⟩
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